Fotolithografie

Mit unseren Fotolithografischen Prozessen können wir durch den Einsatz eine breite Palette von Fotolacken sehr feine Strukturen auf den quadratischen Substraten in Grössen von 4” bis 24”. Mit unserem additiven Prozesse werden Schaltungen mittels Sputterns und Galvanik hergestellt, die Linienbreiten und -höhen präzise definieren und das mit der von Ihnen definierten Metall Zusammensetzung.

Konstante wiederholbare Fotolithografische Auflösung

Unsere Fotolithografischen Prozesse erreichen eine Auflösung von 5 µm auf Substrate bis 6″ x 6″. Dafür werden die Substrate mit unserem Mask-Alligner belichtet. Auf grössere Substrate wie 12” x 12” und 24” x 24” erreichen eine Auflösung von 10 µm. Hier werden die Substrate mit unserem LDI (Laser Direct Imaging) belichtet.